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碳納米管研磨分散設(shè)備

碳納米管研磨分散設(shè)備是制備高性能碳納米管漿料的核心設(shè)備,專注解決團(tuán)聚問題。它通過低損傷研磨結(jié)構(gòu)與高剪切力協(xié)同,在保護(hù)碳納米管結(jié)構(gòu)的同時(shí),將其均勻分散于溶劑中,確保漿料粒徑均一、穩(wěn)定性強(qiáng)。設(shè)備帶精準(zhǔn)溫控,適配鋰電池、導(dǎo)電涂料等領(lǐng)域,為提升下游產(chǎn)品導(dǎo)電性能奠定基礎(chǔ)。

  • 產(chǎn)品型號(hào):GMD2000
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間:2025-10-31
  • 訪  問  量:52
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詳細(xì)介紹

碳納米管研磨分散設(shè)備


碳納米管導(dǎo)電漿料及其制備方法

碳納米管導(dǎo)電漿料主要由碳納米管、其他導(dǎo)電填料、分散助劑、和溶劑組成,其質(zhì)量百分比組成為:碳納米管:0.5-15%,其他導(dǎo)電物質(zhì)0.1-2%,分散助劑:0.1-5%,其余為溶劑。


該碳納米管導(dǎo)電漿料制備方法為:首先將分散助劑溶解在溶劑中,然后在攪拌條件下加入碳納米管和其他導(dǎo)電填料,待碳納米管和其他導(dǎo)電填料充分浸潤(rùn)后,采用SID研磨分散機(jī)對(duì)漿料進(jìn)行研磨分散,幾小時(shí)后即可得到穩(wěn)定分散的碳納米管導(dǎo)電漿料。本發(fā)明方法簡(jiǎn)單,不破壞碳納米管結(jié)構(gòu)和導(dǎo)電性,所制得的碳納米管導(dǎo)電漿料具有優(yōu)良的導(dǎo)電性,且性質(zhì)穩(wěn)定均一,靜置3個(gè)月后,漿料穩(wěn)定性>90%。

碳納米管研磨分散設(shè)備


對(duì)于碳納米管漿料以及其他鋰電池漿料的研磨分散,普遍存在著2個(gè)難以解決的問題:
 
  1、研磨的細(xì)度,傳統(tǒng)的設(shè)備研磨設(shè)備是通過刀頭去磨細(xì),這樣經(jīng)常會(huì)破壞碳納米管結(jié)構(gòu)和導(dǎo)電性,使物料變性。而SID研磨分散機(jī),細(xì)化物料更多的是通過物料與物料直接的撞擊來完成研磨細(xì)化的功能,不會(huì)破壞物料結(jié)構(gòu)。

  2、容易形成二級(jí)團(tuán)聚體,在碳納米管粒徑細(xì)化之后,由于分子之間的作用力,小的物料又會(huì)二次團(tuán)聚,從而影響*終產(chǎn)品的物料粒徑以及分散的效果。SID研磨分散機(jī)很好的克服了二級(jí)團(tuán)聚的現(xiàn)象,SID研磨分散機(jī)是研磨機(jī)和分散機(jī)一體化的設(shè)備,在碳納米管漿料粒徑細(xì)化后,瞬間通過分散工作腔,進(jìn)行分散,避免二次團(tuán)聚的現(xiàn)象。


  GMD2000系列研磨分散設(shè)備是SID公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,我們將三級(jí)變跟為一級(jí),然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)。

碳納米管研磨分散設(shè)備


碳納米管研磨分散設(shè)備參數(shù)表:

研磨分散機(jī)

流量*

輸出

線速度

功率

入口/出口連接

類型

l/h

rpm

m/s

kW


GMSD2000/4

400

14,000

44

4

DN25/DN15

GMSD2000/5

1000

10,050

44

11

DN40/DN32

GMSD2000/10

3000

7,500

44

22

DN80/DN65

GMSD2000/20

8000

4,900

44

45

DN80/DN65

GMSD2000/30

20000

2,850

44

90

DN150/DN125

GMSD2000/50

60000

1,100

44

110

DN200/DN150

*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到最大允許量的 10%。




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