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2021-11-06 納米小型真空均質機是適配實驗室研發的緊湊型設備,由真空系統與高剪切均質機組合而成。通過真空環境消除泡沫、隔絕空氣,配合高速定轉子產生強剪切力,實現物料納米級細化與均勻分散。可模擬量產參數,廣泛用于醫藥、食品等領域的小試與中試驗證。
產品型號:GRS2000
廠商性質:生產廠家
更新時間:2025-11-03
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納米小型真空均質機
   均質機可以有效的消除均質過程中泡沫,可以是物料均質的更che底;真空均質機也可以用于一些不易于空氣接觸的物料(易燃易爆),規避風險,提高生產的安全性。
                 
  均質機是由真空系統和均質機組成,一個真空罐體和管線式均質機相結合,真空罐內可以根據物料的粘稠度來配置相應的攪拌機(普通攪拌或者刮壁攪拌),小型真空罐有進料口、觀察窗、放空閥等。小型管線式均質機為GR2000/4高剪切均質機,是一款小試和中試的理想均質設備,GR2000/4設備轉速高達9000rpm,三級工作頭,采用德國博格曼雙端面機械密封,均質效果jue佳。

影響均質均質結果的因素有以下幾點
1 均質頭的形式(批次式和連續式)(連續式比批次好)
2 均質頭的剪切速率 (越大,效果越好)
3 均質頭的齒形結構(分為初齒,中齒,細齒,超細齒,約細齒效果越好)
4 物料在均質墻體的停留時間,均質均質時間(可以看作同等的電機,流量越小,效果越好)
5 循環次數(越多,效果越好,到設備的期限,就不能再好)

線速度的計算
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉子 間距 (m)
由上可知,剪切速率取決于以下因素:
– 轉子的線速率
– 在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。
SID 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D(轉子直徑)X 轉速 RPM / 60
納米小型真空均質機設備選型表:
標準流量  | 輸出轉速  | 標準線速度  | 馬達功率  | |||
L/H  | rpm  | m/s  | KW  | |||
GRS2000/4  | 300  | 14000  | 44  | 4  | DN25  | DN15  | 
GRS2000/5  | 1500  | 10500  | 44  | 11  | DN40  | DN32  | 
GRS2000/10  | 3000  | 7500  | 44  | 22  | DN50  | DN50  | 
GRS2000/20  | 20000  | 4900  | 44  | 45  | DN80  | DN65  | 
GRS2000/30  | 40000  | 2850  | 44  | 75  | DN150  | DN125  | 
GRS2000/50  | 60000  | 2000  | 44  | 160  | DN200  | DN150  | 
